- 產(chǎn)品信息
- 式樣
產(chǎn)品信息
特 點(diǎn)
●膜厚測量范圍65nm~92μm(換算為SiO2)
●最短曝光時(shí)間1ms~※根據(jù)規(guī)格
●由于是柔性纖維光學(xué)系統(tǒng),容易組裝到半導(dǎo)體工藝裝置中
●可從上層遠(yuǎn)程控制
●最適合于研磨中膜厚終點(diǎn)檢測
基本配置
裝置組裝示意圖
測量案例
適應(yīng)過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝
等等
仕様
MCPD-9800仕様
MCPD-9800仕様
本公司的MCPD series,由于采用柔軟纖維的事,從In-Situ到內(nèi)聯(lián)各種各樣的地方和用途的編入成為可能。測量原理為分光干涉方式,在實(shí)現(xiàn)高測量再現(xiàn)性的同時(shí),還支持多層厚度測量。通過采用獨(dú)自算法,可以高速實(shí)時(shí)監(jiān)控。...
產(chǎn)品信息
特 點(diǎn)
●膜厚測量范圍65nm~92μm(換算為SiO2)
●最短曝光時(shí)間1ms~※根據(jù)規(guī)格
●由于是柔性纖維光學(xué)系統(tǒng),容易組裝到半導(dǎo)體工藝裝置中
●可從上層遠(yuǎn)程控制
●最適合于研磨中膜厚終點(diǎn)檢測
基本配置
裝置組裝示意圖
測量案例
適應(yīng)過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝
等等
仕様
MCPD-9800仕様
MCPD-9800仕様